阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用

更新时间：2024-06-03 20:20:57

导读格隆汇6月3日丨比利时微电子研究中心(IMEC)和阿斯麦6月3日宣布，由双方共同运营的High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab

格隆汇6月3日丨比利时微电子研究中心(IMEC)和阿斯麦6月3日宣布，由双方共同运营的High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab)在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开幕，该实验室可提供High NA EUV扫描仪(TWINSCANEXE：5000)及周边处理工具。声明中称，该实验室的启用是为大批量生产High NA EUV做准备的一个里程碑，预计将于2025-2026年实现大批量生产。